水滴信用-上海子创镀膜技术有限公司

CN217536138U一种新型的共溅双平面磁控靶

基本信息

申请公布号	CN217536138U	申请号	2021233859929
分类号	C23C14/35(2006.01)I
公开（公告）号	CN217536138U	公开（公告）日	2022-10-04
发明名称	一种新型的共溅双平面磁控靶
发明人	张俊峰;赵子东;王栋权;魏庆瑄	申请人	上海子创镀膜技术有限公司
申请日	2021-12-29	申请公布日	2022-10-04
代理机构	上海尊肃专利代理事务所(普通合伙)	代理人	李珍珍
地址	上海市金山区金山工业区金飞路808号
摘要	本实用新型涉及真空溅射镀膜技术领域，具体公开了一种新型的共溅双平面磁控靶，包括呈“A”字形排布的左侧平面靶、右侧平面靶，左侧平面靶、右侧平面靶左右对称倾斜设置在基片的上方，左侧平面靶、右侧平面靶上分别安装有两个不同的靶材；所述左侧平面靶、右侧平面靶安装在阴极盖板上，屏蔽罩的内侧安装有阳极罩，阳极罩的内部安装有靶材，靶材压条的一侧安装有水槽板，水槽板与冷却水管连接；所述水槽板的前侧安装有磁钢座，磁钢座与水槽板之间安装有磁体，磁钢座的外侧安装有靶座。该共溅双平面磁控靶的两平面靶中心线交汇点与与基片上表面重合，从而使两平面靶共同溅射到基片同一区域上，在基片上沉积所需组分的混合物化合物薄膜。

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